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  • 反渗透+EDI超纯水设备

设备名称:反渗透+EDI超纯水设备

设备型号:FEAT-CW
清洗对象:超纯水
使用厂家:半导体、太阳能、硅片、光学、光电行业

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详细参数 Parameter

超纯水设备应用范围                                              


1、电子材料加工、单晶硅半导体、半导体材料、液晶显示器、计算机硬盘、印刷电路板、集成电路;


2、LCD、EL、PDP、TFT、玻壳和显像管;


3、超纯材料和超纯化学剂导纤维和光盘;


4、汽车、家电表面电泳漆清洗用水及其它高科技精密产品;


超纯水设备技术参数                                              


机器型号:N 1T-DI


制 水 量:1 T/H


主要管径:DN 32


工作压力:≤1.0MPa


产水电阻率:18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm


进水水源:城市自来水


进水水温:5-35℃


机器电源:380V/50HZ

超纯水设备产品介绍                                            

采用国际先进的反渗透装置,配套进口混合离子交换设备或EDI设备和紫外线灭菌器、精密过滤器,出水水质符合电子部超纯水水质标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级),取代蒸馏水,满足大专院校、科研机构和工业企业的实验、科研和生产对高纯度纯水的要求。

    该设备广泛应用于电镀工艺去离子水、电池生产工艺用纯水、汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗纯水、镀膜玻璃用纯水、纺织印染工艺所需的除硬除盐水系统。超纯水制造技术的发展极大地推动了半导体和电子工业的技术发展。


超纯水设备工艺说明                                              


电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下3种:


  1、离子交换树脂制备超纯水设备的传统水处理方式,其基本工艺流程为:


原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→阳床→阴床→混床→后置保安过滤器→用水点(特点:污染比较大,自动化程度低,初期投入低)

  2、反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备超纯水设备的方式,其基本工艺流程为:


原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→混床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 (特点:污染小,自动化程度高,初期投入中等,价格适中)

  3、反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备超纯水设备的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:


原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点(特点:环保,自动化程度高,初期投入大,价格相对比较贵)


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